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硅晶片是一种由多晶铸锭、单晶棒经过多种工艺，切割出来后，变成硅晶片。硅晶片也可叫圆晶片，形状有方形，长方形，椭圆形。一般应用于光伏发电、电子、半导体等行业。 硅晶片喷砂工艺流程 浇筑---喷砂---10年前
2011-05-17 -
做喷砂设备已经十余年有多，有不少客户把喷砂设备买回公司去时，发现怎么跟当初自己想的，自己看到的不一样，当然这里讲到的不一样是指喷砂机价格，喷砂工艺要求，喷砂产量要求，喷砂性能，喷砂场地布局，喷砂设备对上、下到工艺的影响程度，所需要配备的辅助设备等等。13年前
2011-05-13 -
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因为铝粉或者镁粉或者其他爆炸性粉尘在一定的浓度下，在遇到火花或静电的情况下很有可能发生爆炸或燃烧。除尘器是喷砂设备重要的一部分，也是喷砂设备不可缺少的一部分，除尘器质量的好坏决定于喷砂设备使用的好坏14年前2011-02-28 -
石英坩埚可在1450度以下使用，分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明石英坩埚是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路必不可少的基础材料14年前2011-02-28 -
靶材--是对物理气相沉积技术应用的镀膜材料形象而直观的称呼。在沉积过程中，膜材要受到电子束、离子束或放电离子的轰击，就象被射击的靶子一样，所以通俗的将这类材料叫做靶材14年前2010-12-11 -
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